English

Sök på liu.se

Utbildning
Forskning
Samverkan

Hem

Om LiU
Aktuellt
Jobba på LiU
Kontakt

English

Utbildning
Forskning
Samverkan
Om LiU
Aktuellt
Jobba på LiU
Kontakt
Stäng menyn

Start
Arun Haridas Choolakkal

Fotografi av Arun Haridas Choolakkal

Arun Haridas Choolakkal

Doktorand

Kontakt

arun.haridas.choolakkal@liu.se
013-28 17 66
1766

Organisation

Institutionen för fysik, kemi och biologi (IFM)
Tunnfilmsfysik (TUNNF)

Besöksadress

Campus Valla, Fysikhuset, Ingång 57, Rum G217

Publikationer

2023

Arun Haridas Choolakkal, Hans Högberg, Jens Birch, Henrik Pedersen (2023) Conformal chemical vapor deposition of boron-rich boron carbide thin films from triethylboron Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films, Vol. 41, Artikel 013401

Vidare till DOI

Till publikationsdatabas

Taggar

Pedersengruppen
Forskarskolan Agora Materiae
Enheten för nanomaterialvetenskap (TFNANO)
Tunnfilmsfysik (TUNNF)
Institutionen för fysik, kemi och biologi (IFM)
Linköpings universitet (LIU)
Medarbetare
Arun Haridas Choolakkal (aruch90)
Doktorand

Visa alla taggar Göm alla taggar

Dela på

Facebook Twitter LinkedIn Email

Linköpings universitet

581 83 Linköping

infocenter@liu.se
013-28 10 00

LiU:s integritetspolicy

Webbplatsansvarig: webmaster@liu.se

Följ oss

Facebook
Twitter
Instagram
LinkedIn

Hitta hit

Kartinformation

Campus Norrköping

Campus Lidingö

Snabblänkar

Regler och styrdokument

Universitetsbibliotek

Internt