2023 Arun Haridas Choolakkal, Hans Högberg, Jens Birch, Henrik Pedersen (2023) Conformal chemical vapor deposition of boron-rich boron carbide thin films from triethylboron Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films, Vol. 41, Artikel 013401 Vidare till DOI 2022 Laurent Souqui, Sachin Sharma, Hans Högberg, Henrik Pedersen (2022) Texture evolution in rhombohedral boron carbide films grown on 4H-SiC(0001) and 4H-SiC(0001) substrates by chemical vapor deposition Dalton Transactions Vidare till DOI Claudia Schnitter, Johanna Rosén, Hans Högberg (2022) Epitaxial Growth of Magnetron-Sputtered ZrB2 Films on Si(100) Substrates Physica Status Solidi (a) applications and materials science Vidare till DOI Sachin Sharma, Laurent Souqui, Henrik Pedersen, Hans Högberg (2022) Chemical vapor deposition of sp(2)-boron nitride films on Al2O3 (0001), (11 2 over bar 0), (1 1 over bar 02), and (10 1 over bar 0) substrates Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films, Vol. 40 Vidare till DOI Nyasha J. Suliali, William E. Goosen, Arno Janse van Vuuren, Ezra J. Olivier, Babak Bakhit, Hans Högberg, Vanya Darakchieva, Johannes R. Botha (2022) Ti thin films deposited by high-power impulse magnetron sputtering in an industrial system: Process parameters for a low surface roughness Vacuum, Vol. 195 Vidare till DOI
Arun Haridas Choolakkal, Hans Högberg, Jens Birch, Henrik Pedersen (2023) Conformal chemical vapor deposition of boron-rich boron carbide thin films from triethylboron Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films, Vol. 41, Artikel 013401 Vidare till DOI
Laurent Souqui, Sachin Sharma, Hans Högberg, Henrik Pedersen (2022) Texture evolution in rhombohedral boron carbide films grown on 4H-SiC(0001) and 4H-SiC(0001) substrates by chemical vapor deposition Dalton Transactions Vidare till DOI
Claudia Schnitter, Johanna Rosén, Hans Högberg (2022) Epitaxial Growth of Magnetron-Sputtered ZrB2 Films on Si(100) Substrates Physica Status Solidi (a) applications and materials science Vidare till DOI
Sachin Sharma, Laurent Souqui, Henrik Pedersen, Hans Högberg (2022) Chemical vapor deposition of sp(2)-boron nitride films on Al2O3 (0001), (11 2 over bar 0), (1 1 over bar 02), and (10 1 over bar 0) substrates Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films, Vol. 40 Vidare till DOI
Nyasha J. Suliali, William E. Goosen, Arno Janse van Vuuren, Ezra J. Olivier, Babak Bakhit, Hans Högberg, Vanya Darakchieva, Johannes R. Botha (2022) Ti thin films deposited by high-power impulse magnetron sputtering in an industrial system: Process parameters for a low surface roughness Vacuum, Vol. 195 Vidare till DOI
Enheten för funktionella material Forskning om de fundamentala och praktiska aspekterna av ultra-tunna filmer och skikt.
Tunnfilmsfysik (TUNNF) Forskningen på vår avdelning handlar om design av nya multifunktionella material för hårda och slitstarka beläggningar, energimaterial, magnetiska material, elektronik, neutronkonverteringsmaterial för ESS, wide-bandgap halvledare och mer.
Institutionen för fysik, kemi och biologi (IFM) Vid Institutionen för fysik, kemi och biologi (IFM) bedrivs forskning och utbildning inom biologi, kemi, materialfysik, tillämpad fysik och teori och modellering.