Enheten för materialoptik

Fotograf: Olov Planthaber

Materialoptik är en enhet vid avdelningen Tunnfilmsfysik. Vi använder polarisationsoptik för att bestämma materials optiska egenskaper och för att studera avancerade nanostrukturer. I The LiU Spectroscopic Ellipsometry Laboratory (The LiUSE-lab) har vi en samling mycket fina instrument för våra polarisationsstudier.

Vår forskning inkluderar studier av biologiska material där vi framför allt är intresserade av kirala strukturer som vi ofta finner i skalbaggsskal. Med biomimetiska angreppssätt tillverkar vi sedan fotoniska strukturer inspirerade av de naturliga strukturerna. I andra projekt undersöker vi nya optiska komponenter baserade på flytande kristaller.

2026

Yu-Hsuan Hsu, Roger Magnusson, Rohini Sanikop, Shailesh Kalal, Justinas Palisaitis, Sagar Jathar, Katrin Pingen, Per Sandström, Issa Nseir, Arnaud le Febvrier, Urban Forsberg, Ray-Hua Horng, Kenneth Järrendahl, Per Eklund, Vanya Darakchieva, Jens Birch, Ching-Lien Hsiao (2026) Growth and optical properties of polar-, nonpolar, and semi-polar wurtzite ScGaN films Applied Physics Letters, Vol. 129, Artikel 031902 (Artikel i tidskrift) https://dx.doi.org/10.1063/5.0325421
Hans Arwin, Stefan Schoeche, Arturo Mendoza-Galvan, Kenneth Järrendahl, James N. Hilfiker, Roger Magnusson (2026) Transmission ellipsometry, circular birefringence, and circular dichroism in the Mueller-matrix formalism AIP Advances, Vol. 16, Artikel 065115 (Artikel i tidskrift) https://dx.doi.org/10.1063/5.0314738
Zhong-Lin Ye, Siddharth Rana, Sheng-Ti Chung, Irmantas Kasalynas, Kenneth Järrendahl, Ching-Lien Hsiao, Ray-Hua Horng (2026) High-performance lateral ß-Ga2O3 Schottky barrier diodes enabled by (Al0.21Ga0.79)2O3/Ga2O3 heterostructure, sidewall electrodes, and dielectric field-plate engineering Results in Engineering (RINENG), Vol. 31, Artikel 111339 (Artikel i tidskrift) https://dx.doi.org/10.1016/j.rineng.2026.111339
Chun-Chia Chang, Sheng-Ti Chung, Ching-Ho Tien, Siddharth Rana, Kenneth Järrendahl, Ching-Lien Hsiao, Yu-Chen Yang, Kun-Lin Lin, Irmantas Kasalynas, Ray-Hua Horng (2026) Enabled enhancement mode ß-Ga2O3 MOSFETs with high-? HfO2 gate dielectric and non-recess structure Materials Today Advances, Vol. 30, Artikel 100760 (Artikel i tidskrift) https://dx.doi.org/10.1016/j.mtadv.2026.100760
Marcus Lorentzon, Kenneth Järrendahl, Roger Magnusson, Jens Birch, Naureen Ghafoor (2026) Hf1-xAlxNy: A versatile material system for visible-range anti-reflection and high-reflection optical coatings Materials Today Communications, Vol. 52, Artikel 114960 (Artikel i tidskrift) https://dx.doi.org/10.1016/j.mtcomm.2026.114960

Kontakt

Tillbaka till Tunnfilmsfysik