Fotografi av Henrik Pedersen

Henrik Pedersen

Professor

Jag undervisar inom oorganisk kemi och leder en forskargrupp som på olika sätt arbetar med CVD, Chemical Vapour Deposition, en kemisk metod för syntes av tunnfilmsmaterial.

Presentation

Forskning

Chemical Vapour Deposition (CVD) är en grundläggande process vid tillverkning av ytskikt och tunna lager av olika material. Den används vid tillverkning av allt från elektronik till skärverktyg och fotokromatiska fönster. Min forskning handlar om att förstå CVD: vilka kemiska reaktioner sker vid CVD av ett visst material, och hur kan man kontrollera dessa reaktioner för att göra bättre CVD och bättre material? Målet är att möjliggöra t.ex. ny och bättre elektronik genom att utveckla CVD för lägre temperatur och med högre precision.

Min forskning sker i gränslandet mellan kemi, fysik, materialvetenskap och elektronik. Min forskargrupp består därför av syntetiska kemister, fysikaliska kemister, kvantkemister, materialvetare och halvledarfysiker.

Henrik Pedersen

I ett av våra pågående projekt studerar vi hur tidsupplöst CVD kan användas för att förbättra materialkvalitén, och därigenom prestandan, för grupp 13-nitriderna AlN, GaN, InN och deras legeringar. Här använder vi den mest kända tidsupplösta CVD-tekniken; atomlagerdeponering (ALD) med tidsupplöst tillförsel av källmolekyler och även tidsupplöst tillförsel av energi i form av plasmaurladdningar. En viktig del av projektet är att utveckla nya källmolekyler för grupp 13-metaller. Detta görs i nära samarbete med professor Seán Barry vid Carleton University i Ottawa, Kanada. En annan viktig del är att studera hur molekyler reagerar på ytan under ALD-processen, det gör vi främst med kvantkemiska beräkningar i nära samarbete med professor Lars Ojamäe vid Linköpings universitet.

Thermal ALD

I ett annat projekt utvecklar vi en ny CVD-metod där de fria elektronerna i en plasmaurladdning används för att reducera metalljonerna i adsorberade källmolekyler till en metallisk film. Denna forskning bedrivs i nära samarbete med professor Daniel Lundin vid Linköpings universitet. Målet med detta projekt är att skapa nya metoder för metalldeponering samt förståelse för hur plasmaelektroner kan användas för ytkemi.

I vår forskning kring CVD av borbaserade föreningar arbetar vi med borkarbid för neutrondetektorer. Eftersom neutroner är elektriskt neutrala är de väldigt svåra att upptäcka. Därför behöver omvandla dem till något med en elektrisk laddning för att kunna upptäcka dem. Det kan man göra genom att låta neutronen reagera med olika isotoper, t.ex. 10B eller 157Gd. I samarbete med med professor Jens Birch vid Linköpings universitet och European Spallation Source (ESS) i Lund, studerar vi tunnfilmer med hög koncentration av 10B som kommer att kunna utgöra kärnan i många av neutrondetektorerna på ESS. Vi studerar också CVD av bornitrid som ett möjligt framtida elektronikmaterial tillsammans med docent Hans Högberg vid Linköpings universitet.

Kontakta gärna mig om du är intresserad av att starta ett samarbete eller delta i ett forskningsprojekt.

Undervisning

Jag undervisar kemi på grundläggande och avancerad nivå. Du träffar mig på grundkurserna kurser inom allmän kemi, oorganisk kemi och miljökemi på kemi- kemisk analysteknik- och kemisk biologiprogrammen, samt på materialkemikurser på masterprogrammet i kemi. Min grundfilosofi inom kemiundervisning är ”att lära sig kemi är att lära sig tänka kemi”. Jag försöker hela tiden peka på hur väldigt mycket inom kemin går tillbaka till ett par enkla grundprinciper så som elektronegativitet eller atom- och molekylorbitaler. Jag försöker också peka på hur man kan förstå väldigt mycket om en molekyl från dess struktur.



-

Organisation

Forskning

Publikationer

2024

Pamburayi Mpofu, Houyem Hafdi, Jonas Lauridsen, Oscar Alm, Tommy Larsson, Henrik Pedersen (2024) A mass spectrometrical surface chemistry study of aluminum nitride ALD from tris-dimethylamido aluminum and ammonia Materials Advances (Artikel i tidskrift) Vidare till DOI
Sachin Sharma, Laurent Souqui, Justinas Palisaitis, Duc Quang Hoang, Ivan Gueorguiev Ivanov, Per O A Persson, Hans Högberg, Henrik Pedersen (2024) On the origin of epitaxial rhombohedral-B4C growth by CVD on 4H-SiC Dalton Transactions, Vol. 53, s. 10730-10736 (Artikel i tidskrift) Vidare till DOI
Pamburayi Mpofu, Houyem Hafdi, Pentti Niiranen, Jonas Lauridsen, Oscar Alm, Tommy Larsson, Henrik Pedersen (2024) Surface chemistry in atomic layer deposition of AlN thin films from Al(CH3)3 and NH3 studied by mass spectrometry Journal of Materials Chemistry C (Artikel i tidskrift) Vidare till DOI
Collin Rowe, Ankit Kashyap, Geetu Sharma, Naveen Goyal, Johan G. Alauzun, Sean T. Barry, Narayanan Ravishankar, Ajay Soni, Per Eklund, Henrik Pedersen, Ganpati Ramanath (2024) Nanomolecularly-induced Effects at Titania/Organo-Diphosphonate Interfaces for Stable Hybrid Multilayers with Emergent Properties ACS Applied Nano Materials (Artikel i tidskrift) Vidare till DOI
Sachin Sharma, Justinas Palisaitis, Ivan Gueorguiev Ivanov, Per O A Persson, Henrik Pedersen, Hans Högberg (2024) The Influence of Carbon on Polytype and Growth Stability of Epitaxial Hexagonal Boron Nitride Films Advanced Materials Interfaces (Artikel i tidskrift) Vidare till DOI
Pentti Niiranen, Anna Kapran, Hama Nadhom, Martin Cada, Zdenek Hubicka, Henrik Pedersen, Daniel Lundin (2024) Plasma electron characterization in electron chemical vapor deposition Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films, Vol. 42, Artikel 023006 (Artikel i tidskrift) Vidare till DOI

2023

Giane Damas, Karl Rönnby, Henrik Pedersen, Lars Ojamäe (2023) Thermal decomposition of trimethylindium and indium trisguanidinate precursors for InN growth: An ab initio and kinetic modeling study Journal of Chemical Physics, Vol. 158, Artikel 174313 (Artikel i tidskrift) Vidare till DOI
Karl Rönnby, Henrik Pedersen, Lars Ojamäe (2023) Surface chemical mechanisms of trimethyl aluminum in atomic layer deposition of AlN Journal of Materials Chemistry C, Vol. 11, s. 13935-13945 (Artikel i tidskrift) Vidare till DOI
Jing-Jia Huang, Christian Militzer, Charles Wijayawardhana, Urban Forsberg, Henrik Pedersen (2023) Superconformal silicon carbide coatings via precursor pulsed chemical vapor deposition Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films, Vol. 41, Artikel 030403 (Artikel i tidskrift) Vidare till DOI
Karl Rönnby, Henrik Pedersen, Lars Ojamäe (2023) On the limitations of thermal atomic layer deposition of InN using ammonia Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films, Vol. 41, Artikel 020401 (Artikel i tidskrift) Vidare till DOI
Arun Haridas Choolakkal, Hans Högberg, Jens Birch, Henrik Pedersen (2023) Conformal chemical vapor deposition of boron-rich boron carbide thin films from triethylboron Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films, Vol. 41, Artikel 013401 (Artikel i tidskrift) Vidare till DOI
Pentti Niiranen, Hama Nadhom, Michal Zanaska, Robert Boyd, Mauricio Sortica, Daniel Primetzhofer, Daniel Lundin, Henrik Pedersen (2023) Biased quartz crystal microbalance method for studies of chemical vapor deposition surface chemistry induced by plasma electrons Review of Scientific Instruments, Vol. 94, Artikel 023902 (Artikel i tidskrift) Vidare till DOI
Henrik Pedersen, Hsu Chih-Wei, Neeraj Nepal, Jefferey M. Woodward, Charles R. Eddy (2023) Atomic Layer Deposition as the Enabler for the Metastable Semiconductor InN and Its Alloys Crystal Growth & Design, Vol. 23, s. 7010-7025 (Artikel i tidskrift) Vidare till DOI
M. Povoli, A. Kok, O. Koybasi, M. Getz, G. ONeill, D. Roehrich, E. Monakhov, Henrik Pedersen, Jens Birch, Arun Haridas Choolakkal, K. Kanaki, C. -C. Lai, R. Hall-Wilton, T. Slavicek, I. Llamas Jansa (2023) 3D silicon detectors for neutron imaging applications Journal of Instrumentation, Vol. 18, Artikel C01056 (Artikel i tidskrift) Vidare till DOI
Ganpati Ramanath, Collin Rowe, Geetu Sharma, Venkat Venkataramani, Johan G. Alauzun, Ravishankar Sundararaman, Pawel Keblinski, Davide Sangiovanni, Per Eklund, Henrik Pedersen (2023) Engineering inorganic interfaces using molecular nanolayers Applied Physics Letters, Vol. 122, Artikel 260502 (Artikel i tidskrift) Vidare till DOI

Nyheter