Presentation

Jag är kemist och har specialiserat mig på användning av CVD, Chemical Vapour Deposition, för syntes av tunnfilmsmaterial.

Chemical Vapour Deposition (CVD) är en grundläggande process vid tillverkning av ytskikt och tunna lager av olika material. Den används vid tillverkning av allt från elektronik till skärverktyg och fotokromatiska fönster.

Basen för min forskning är att öka grundförståelsen för vilka kemiska reaktioner som sker vid CVD av ett visst material, och hur CVD kan förbättras genom bättre kontroll av både kemin och den fjärde dimensionen – tiden. Målet är att möjliggöra t.ex. ny och bättre elektronik genom att utveckla CVD för lägre temperatur med högre precision och att kunna utveckla nya banbrytande material.

Projekt inom CVD

Henrik PedersenVid avdelningarna för kemi, halvledarmaterial och tunnfilmsfysik, här på Institutionen för fysik, kemi och biologi vid Linköpings universitet, använder vi rutinmässigt avancerade CVD-metoder och genomför avancerade projekt som kräver stor expertis och genererar banbrytande resultat.

I ett av våra pågående projekt utforskar vi hur tidsupplöst CVD kan användas tillsammans med nya källmolekyler för att förbättra materialkvalitén hos, och därigenom prestandan på, elektronik baserad på grupp 13-nitrider: AlN, GaN, InN och deras legeringar. Här använder vi den mest kända tidsupplösta CVD-tekniken; atomlagerdeponering (ALD) med tidsupplöst tillförsel av källmolekyler och expanderar den till att innefatta även tidsupplöst tillförsel av energi till ett kontinuerligt flöde av källmolekyler med tidsupplösta plasmaurladdningar. I samarbete med professor Seán Barry vid Carleton University i Ottawa, Kanada utvecklar vi även nya källmolekyler för både grupp 13-metaller och kväve.Thermal ALD

Tillsammans med Dr. Daniel Lundin vid Université Paris-Sud, Frankrike och Doc. Kostas Sarakinos vid Linköpings universitet, utvecklar vi en tidsupplöst, yt-kontrollerad plasma CVD-teknik för metalliska tunnfilmer. Här kommer vi använda plasmaelektroner som reduktionsmedel för att reducera metalljonen i källmolekylen till atomär metall.

Vi arbetar också med borkarbid för neutrondetektorer. Eftersom neutroner är elektriskt neutrala är de väldigt svåra att upptäcka. Därför behöver omvandla dem till något med en elektrisk laddning för att kunna upptäcka dem. Det kan man göra genom att låta neutronen reagera med olika isotoper, t.ex. 10B eller 157Gd. I samarbete med med Prof. Jens Birch vid Linköpings universitet och European Spallation Source (ESS) i Lund, studerar vi tunnfilmer med hög koncentration av 10B som kommer att kunna utgöra kärnan i många av neutrondetektorerna på ESS.

Möjligheter

SEM sampleJag är alltid öppen för ansökningar och intresseanmälan från studenter, doktorander och post-doktorer med intresse för yt- och materialkemi. Då vi jobbar i en multidisciplinär miljö kan jag erbjuda projekt med möjlighet till nära samarbete med materialforskare likväl som fysiker.

Linköpings universitet har därtill en väl utbyggd forskningsinfrastruktur, med god tillgång på såväl analytisk expertis som material och utrustning. Vi har avancerad utrustning för tunnfilmsdeponering och materialkarakterisering.

Kontakta mig gärna om du är intresserad av att starta ett samarbete eller delta i ett forskningsprojekt.

Undervisning

Jag undervisar på kurser inom allmän kemi, oorganisk kemi, miljökemi och tunnfilmsfysik, alla vid Linköpings universitet.

Online-kontakt

Twitter: @hacp81

ORCID: 0000-0002-7171-5383

Visa/dölj innehåll

Akademiska uppdrag 

  • Gästprofessor, Department of Chemistry, Carleton University, Ottawa, Canada, Apr – Jun 2016
  • Forskarassistent, Halvledarmaterial, Linköpings universitet, Jul 2011 – Sep 2012
  • Post doc, Halvledarmaterials, Linköpings universitet, Jun 2010 – Jun 2011
  • Forskningsingenjör, Coating Technology, Sandvik Tooling, Stockholm Jan 2009 – May 2010
  • Doktorand i Kemi/Materialvetenskap, Linköpings universitet, Jun 2004 – Dec 2008 

Forskningsmedel

Beviljade forskningsmedel som huvudsökande

  • April 2016, 0.1 MSEK, CeNano, LiU, Self-limiting surface chemistry by in situ spectroscopic ellipsometry, ett år
  • November 2015, 4 MSEK, Vetenskapsrådet, Self-limiting deposition of transition metal thin films by pulsed plasma chemistry, fyra år
  • June 2011, 0.2 MSEK, Ångpanneföreningens Forskningsstiftelse (ÅForsk), Synthesis of multifunctional carbon layers, tre år
  • November 2010, 0.5 MSEK, Vinnova, A new type of plasma activated CVD-process, ettårigt utvärderingsprojekt

Gästföreläsningar

Internationella gästföreläsningar i urval

  • American Chemical Society Spring Meeting, San Francisco, USA, april 2017, “Time is of the essence: using the fourth dimension to improve CVD”
  • Workshop on Simulation of chemistry-driven growth phenomena for metastable materials, Schloss Rauischholzhausen, Marburg, Germany, november 2015, “Modeling Chemical Vapour Deposition: An experimentalist’s view”
  • 13th International Ceramics Congress (CIMTEC 2014), juni 2014, Montecatini Terme, Italy, “High power pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition”

Forskning
Visa/dölj innehåll

Publikationer
Visa/dölj innehåll

2019

Organisation
Visa/dölj innehåll